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二氧化硅納米薄膜厚度標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)

更新時(shí)間：2024-03-14

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廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商

生產(chǎn)地址：

簡(jiǎn)要描述：

本標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)主要用于薄膜厚度測(cè)量和表面化學(xué)分析（深度剖析）儀器設(shè)備的檢定/校準(zhǔn)、分析方法的確認(rèn)與評(píng)價(jià)、技術(shù)仲裁測(cè)量以及測(cè)量質(zhì)量控制等。

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產(chǎn)品介紹：

品牌	中國(guó)計(jì)量科學(xué)研究院	供貨周期	現(xiàn)貨
應(yīng)用領(lǐng)域	綜合	1片	11.10nm

本標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)主要用于薄膜厚度測(cè)量和表面化學(xué)分析（深度剖析）儀器設(shè)備的檢定/校準(zhǔn)、分析方法的確認(rèn)與評(píng)價(jià)、技術(shù)仲裁測(cè)量以及測(cè)量質(zhì)量控制等。一、樣品制備本標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)系通過原子層沉積技術(shù)在單晶硅基底上生長(zhǎng)二氧化硅納米薄膜成批制備而成，切割形成正方形片狀樣品（10mm×10mm×0.7mm）。二、溯源性及定值方法本標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)采用兩種的不同原理方法（掠入射 X 射線反射測(cè)量和橢偏測(cè)量）進(jìn)行定值，以兩種定值方法測(cè)量結(jié)果的總平均值作為標(biāo)準(zhǔn)值。通過使用滿足計(jì)量學(xué)特性要求的測(cè)量方法和計(jì)量器具，保證標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)量值的溯源性。